В настоящее время в России разрабатываются литографические машины под техпроцесс 350 и 130 нм. Также разрабатываются установки травления и осаждения, являющиеся частью литографической производственной линии. Идут работы по чистым веществам.
Техпроцессы 350 и 130 нм часто ошибочно называют устаревшими, подразумевая то, что самые последние из освоенных техпроцессов приближаются к норме N2 (по старому — условные «2 нм»).
Такое определение было бы корректно, если бы по нормам 350 и 130 нм уже ничего нигде не выпускалось. Однако это довольно ходовые в мире современные нормы для производства микросхем, которым не требуется высокая экономичность и производительность. Поэтому такие техпроцессы корректнее называть не устаревшими, а грубыми или толстыми. И России они нужны тоже.
Россия сегодня вообще не выпускает своё оборудование для этих техпроцессов, хотя у неё и есть некоторое ограниченное количество зарубежного оборудования, позволяющее выпускать микросхемы вплоть до 90 нм. Также, есть возможность закупать оборудование для 90 нм в Китае, что сейчас и делает завод Микрон для расширения своего производства.
Закупка оборудования за рубежом для более тонких техпроцессов сегодня довольно проблематична. С теми же проблемами, надо сказать, сталкивается и Китай. Поэтому, несомненно, России придётся такое оборудование делать самостоятельно. А для этого надо научиться этому, что сегодня и происходит при разработке станков для техпроцессов 350 и 130 нм.
В начале этого года появилась конкретика по этой теме. Если ОКР предусматривал изготовление опытного образца литографа на 350 нм к середине следующего, 2024-го года, то серийное производство этих машин намечено на середину 2025-го года. Это означает, что сформировать из оборудование полноценные производственные линии станет возможно уже в 2026 году. Если говорить про литографы 130 нм — прибавляйте ещё два года.
О том, что всё идёт по плану, свидетельствует появившаяся на днях информация о том, что в настоящее время реализуется проект по строительству сети полигонов для тестирования оборудования для производства микроэлектроники, которое сейчас находится в разработке.
По сути, выделяются помещения, где будут собирать и тестировать полноценные производственные линии. Но это будут не просто помещения, а модели полноценных фабрик со всеми трубопроводами для подачи чистых веществ (жидкостей, газов) и т.п.
Строительство одного такого полигона с учетом затрат на сложную инженерную инфраструктуру может стоить около 5 млрд руб. В этих помещениях специалисты будут конструировать производственные линии и параллельно обучаться.
Одним из таких полигонов будет реконструируемый завод «Протон», где планируется предусмотреть всю необходимую инфраструктуру для возможности размещения технологического, научного и контрольно-измерительного оборудования. Полигон планируется запустить осенью 2026 года. Как раз к этому времени должен появится опытный образец литографа на 130 нм.
Предполагается, что каждая единица оборудования на полигоне будет иметь также цифровой двойник для сокращения цикла разработки и аттестации технологических процессов. Организация виртуальных технологических линий позволит увеличить объемы подготовки специалистов в области электронного машиностроения, процессов и технологий электронной компонентной базы.
Помимо завода «Протон», подобные полигоны планируется построить также в Санкт-Петербурге и на базе фрязинского АО «НПП «Исток» имени А. И. Шокина».
Так что пока всё идёт в правильном направлении, хотя и медленнее, чем нам всем хотелось бы. Надеюсь, что полигоны пригодятся также и при отладке рентгеновского литографа для техпроцесса 28 нм, работы по которому тоже ведутся (пока действующих НИОКРов на госзакупках я не наблюдал, но тема прорабатывается).
Источник